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emer 两字名字印章刻制指南
一、设计原则
印章刻制需遵循以下核心要求：
- 字体选择：优先选用篆刻专用字体（如汉印篆、楷书篆）
- 笔画处理：横竖笔画粗细比建议1:0.618
- 字间距：单字间距不超过笔画最大宽度
二、布局技巧
| 字形结构 | 布局方案 |
| 左右结构 | 左右对称留白比例3:7 |
| 上下结构 | 垂直中线偏差不超过2mm |
三、材质建议
- 青铜材质：适合长期保存（硬度6H以上）
- 石材类：建议使用寿山石/青田石（密度2.6-2.7g/cm³）
- 金属类：不锈钢304材质耐腐蚀性最佳
四、注意事项
避坑指南：
- 避免使用笔画交叉过多的字（如"卍"）
- 单字笔画数建议在4-8画之间
- 阴刻印章建议笔画高度＞3mm
参考标准：《篆刻艺术基础》（王福庆著）第三章第2节
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